PDF《根源上的工艺控制加速了多重曝光技术和 EUV 微影的整合》

1、Teron 640e、LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 均由 KLA-Tencor 的全球综合服务网络提供支持.有关五款新系统的更多信息,请参见先进图案成型控制网 页. 关于 KLA-Tencor 公司: KLA-Tencor 公司是全球领先的工艺控制及良率管理解决方案的设备供应商.该公司与全球的 客户合作,开发最先进的检测和量测技术,并致力服务于半导体以及相关的纳米电子产业. 凭借业界标准的产品组合和世界一流的工程师科学家团队,公司

40 余年来持续为客户打造卓 越的解决方案. KLA-Tencor 公司的总部位于加利福尼亚州米尔皮塔斯市(Milpitas),并在 全球各地设有专有的客户运营和服务中心.更多相关信息,请访问公司网站 http://www.kla- tencor.com(KLAC-P). 前瞻性声明: 本新闻稿中除历史事实以外的声明,例如关于 ATL,SpectraFilm F1,Teron 640e,LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 系统的预期性能,ATL,SpectraFilm F1,Teron 640e,LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 系统对于未来技术节点的可拓展性,ATL,SpectraFilm F1,Teron 640e,LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 系统的客户预期使用,以及 ATL,SpectraFilm F1, Teron 640e,LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 系统用户的预期成本、操作及其他可实现的效 益的声明都是前瞻性陈述,并且符合

1995 年美国私人证券诉讼改革法案 (Private Securities Litigation Reform Act of 1995)中 安全港 (Safe Harbor)条款的规定. 这些 前瞻性声明基于目前的资讯及预期,并且受到诸多风险与不确定性影响.由于各种实际因素 的影响,例如(由于成本,性能亦或其他原因造成的)新技术推迟,其他公司推出竞争性产 品,或者意外的技术挑战或限制对 KLA-Tencor 产品的实施、性能或使用产生影响,实际的结 果可能与此类声明中的预计结果大相径庭. # # # ........