编辑: LinDa_学友 2018-10-23
2018/12/24 洪澜 教授 http://ssis.

suda.edu.cn/c0/0b/c7671a180235/page.htm 1/2 冶金工程系 资源循环科学与工程系 金属材料工程系 复合材料工程系 兼职教授 洪澜 教授 2014-03-21 h 姓名洪澜 职称教授 博导/硕导 硕导 所属二级机构 冶金工程系 通讯地址苏州市相城区济学路8号苏州大学阳澄湖校区沙钢钢铁学院 联系电话0512-67165621 E-mail honglan@suda.edu.cn 学习/工作经历 2013.02~至今苏州大学冶金工程系,教授 2005.11~2012.12 澳大利亚品川耐火材料澳新分公司,高级研究员 2002.06~2005.1 澳大利亚新南威尔士大学材料学院,研究员 1999.04~2002.05日本名古屋大学材料学院,研究员兼非常勤讲师 1993.10~1999.03日本名古屋大学材料学院,博士 1992.10~1993.09 东北师范大学,日语研修生 1989.09~1992.03东北工学院有色金属冶金系, 硕士 1985.09~1989.07东北工学院有色金属冶金系,本科 社会兼职 研究方向与领域 冶金耐火材料的性能与制备 难处理多组分共伴生资源的高效综合开发利用 主讲课程 《钢铁冶金学》、《冶金反应工程学》(双语)、《专业英语》、《冶金新技 术讲座》等 科研情况 以反应热力学、动力学相关理论为依据,深入研究中、高温气-液-固复杂 多相体系的反应机理,开发与应用条件相匹配的新技术、新材料. (1) 冶金耐火材料.高纯净钢冶炼用压制成型免烧原位合成无碳铝镁尖晶 石钢包壁砖及包底预制件;

致密抗渣侵、与熔渣/熔金不润湿、无沥青化高炉 铁水沟浇注料;

压损小、耐蚀强、工作时间长、凝固时间短、施工速度快非自 流湿式喷吹料;

铝及铝合金工业用密度低绝热性能好、与熔铝及其合金不润湿 高耐蚀性耐火浇注料;

固化时间与工作时间相差小、减水效果显著的耐火浇注 料添加剂;

耐火材料抗热震性的提高;

免烧耐火材料的表面激光处理;

耐材与 熔渣/熔融金属间的相互作用机制 (2) 难处理资源的高效综合开发利用.应用于氯化冶金过程中含氯废塑料 的高度资源化;

废塑料应用于电弧炉炼钢过程对泡沫渣的形成及调控机制;

含 氧化合物的碳热反应动力学基础研究(氧化铁、氧化镁、氧化锌、莫来石等) 请输入搜索关键字 首页 师资力量 冶金工程系 首页 学院概况 机构设置 师资力量 人才培养 学生工作 教学科研 学科建设 党群工作 招生就业 教学评估 2018/12/24 洪澜 教授 http://ssis.suda.edu.cn/c0/0b/c7671a180235/page.htm 2/2 (3) 原位铝热还原氧化镁制备镁蒸汽脱除钢液中的氧、硫 代表性论著: 1) L. Hong and Veena Sahajwalla: Carbothermic Reduction of Mullite at Elevated Temperature, Metall. & Mater. Trans. B, 44(6), pp.1541-1545, 2013. 2) L. Hong and Veena Sahajwalla: High Temperature Performance of Al2O3CSiO2CSiCCC Ramming Refractory While Using Al and BN Additive, ISIJ Int., 53(12), pp.2126-2131,2013. 3) P.J.Uunes Rubio, L. Hong, N.Saha-Chaudhury, R.Bush and V.Sahajwalla: Dynamic Wetting of G raphite and SiC by Ferrosilicon Alloys and Silicon at 1550C, ISIJ Int., 46(2006), p.1570. 4) L. Hong and V. Sahajwalla: Investigation of in-situ Chemical Reaction of Al2O3-SiC-SiO2-C refractory and Its Interactions with Slag, ISIJ Int. 44(2004), p.785. 5) L. Hong, H.-Y. Sohn and M. Sano: Kinetics of Carbothermic Reduction of Magnesia and Zinc Oxide by Thermogravimetric Analysis Technology, Scan. J. Metall., 32(2003), p.171. 6) L. Hong, H. Sagimura, O. Takai, N. Nakagiri and M. Okada: Alkylsilane Self-Assembled Mono layer Photolithography: Effects of Proximity Gap on Photodegradation and Patterning Resoluti on, Jpn. J. Appl. Phys., 42(2003), p.L394. 7) L. Hong, H. Sugimura, T. Furukawa and O. Takai: Photoreactivity of Alkylsilane Self-Assem bled Mobolayers on Silicon Surfacd and Its Application to Preparing Micropatterned Ternary M onolayers, Langmuir, 19(2003), p.1966. 8) L. Hong, K. Hayashi, H. Sugimura, O. Takai, N. Nakagiri and M. Okada: Micropatterning of Organosilane Self-Assembled Monolayers Using Vacuum Ultraviolet Light at

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