编辑: xiong447385 | 2018-12-27 |
设备需求 1. 设备名称: 激光脉冲沉积系统 2. 技术要求: 极限真空度:≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后);
*2.2 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
*2.3 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,20分钟可达到5x10-3 Pa;
2.4 激光入射口到地面的距离为1200mm;
球型真空室尺寸Ф300mm,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;
旋转靶台组件 2.6.1 每次可以装四块靶材,靶材尺寸:Φ30mm;
每块靶材可实现自转,转速5~60转/分,连续可调,由步进电机驱动磁力耦合机构控制;
靶位公转换位机构,由步进电机驱动磁耦合机构控制;
靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽,每次只有一个靶材露出溅射成膜,以避免靶材之间的交叉污染;
2.7抗氧化基片加热台组件 基片尺寸:可放置1″基片;
*2.7.2 基片加热最高温度 1000°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制,采用石墨材料 作加热器;
2.7.3 基片可连续回转,转速5~60转/分,步进电机驱动磁耦合机构控制;
2.7.4 基片与靶台之间距离30~90mm可调,由腔外手动波纹管调节机构控制;
2.7.5 样品托:在一定时间内保证不变形 2.8 抽气机组及阀门、管道 2.8.1 复合分子泵及变频控制电源抽速600升/秒,北京;
2.8.2 直联机械泵抽速4升/秒,上海;
2.8.3 KF25电磁压差阀,上海;
2.9 安装机台架组件 2.9.1 优质方钢型材(50mm x50mm x4mm)焊接成,快卸围板表面喷塑处理;
机台表面用不锈钢蒙皮装饰;
四只脚轮,可固定,可移动;
2.10 真空测量及电控系统 2.10.1 总控制电源:为分子泵、机械泵、电磁截止阀、真空计等提供电源,有断电断水保护功能;
样品加热控温电源,可实现程序控温;
宽量程数显真空计(成都): 电阻规:1套(1.0x105Pa~1.0x10-1Pa);
电离规:1套(1.0x10-1Pa~1.0x10-5Pa);
*2.11计算机控制系统 由硬件卡、软件组成;
控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫描等;
主机、附件详细清单 系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成;
1、溅射真空室组件 1套 真空室组件上焊有各种规格的法兰接口如下: 1.1 RF150法兰接口:1个(接活开门组件);
1.2 RF125法兰接口:2个(接基片样品台组件、靶组件);
1.3 RF63法兰接口:3个(激光入射窗口1个、红外测温窗口、观察窗口);
1.4 RF10法兰接口:3个(1路进气管路、充气阀、备用);
1.5 CF150法兰接口:1个(接分子泵);
1.6 CF50法兰接口:2个(备用);
1.7 CF35法兰接口:3个(接高真空电离规管、照明、备用);
1.8 CF16法兰接口:2个(高压放电电极、备用);
1.9 KF40法兰接口:1个(接旁抽);
1.10 ZC16法兰接口:1个(接低真空电阻规管);
2、旋转靶台组件 1套
3、抗氧化基片加热台组件 1套3.
1、手动控制样品挡板组件:1套;
3.
2、样品托:6个;
4、窗口及法兰接口部件 1套4.